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拉曼光谱成像系统

石墨烯CVD制备设备

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石墨烯CVD制备设备,二维材料制备稳定可靠

所属类别:材料分析设备 » 拉曼光谱成像系统

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石墨烯CVD制备设备

这款配置的低真空CVD系统由1200℃真空管式炉,3通道气路系统和真空系统组成,可根据用户需要设计生产有双温区、三温区、多温区),可预抽真空(有高真空、低真空),通多种气氛(供气系统有质子流量控制器和浮子流量控制器〕。真空泵、阀均釆用进口设备,性能可靠。控制电跻选用模糊PD程控技术,具有控温精度髙,温冲幅度小,性能可靠,简单易操作等特点。CVD生长系统适用于CVD工艺,如碳化硅镀膜、陶片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容(MLCC)气氛烧结等。

技术参数

1200双温区加热炉

电压 AC220V 50/60Hz

功率 4.5KW 双温控

Max温度 1150 °C

工作温度 ≤ 1100 °C

升温速率 ≤  15°C/min

温控系统 PID自动控制晶闸管(可控硅)输出功率,30段可编程控制器

恒温精度 ±1°C

石英管 25/50/60/80*1400mm


三路质量流量控制系统

MAX电压 185~245V/50Hz

欧洲成在人线a免费视频MAX输出功率  18W

流量计标准量程 50,100,200,500SCCM(非特殊指定以氮气标定,量程可选定)

工作温度 5~45  °C

工作压差 0.1~0.5 MPa

MAX压力 3MPa

准确度 ±1.5%FS


低真空系统

采用双极旋片真空泵

不锈钢充油真空压力表,良好的抗震性

安装过滤器


内置测温系统

测温元件可从加热区边缘延申至温区中心法兰密封,保证炉管的密封性测温元件,N型热电偶

法兰及支撑

304不锈钢快速水冷法兰,长期水冷无腐蚀,一个卡箍就能完成法兰的连接,放取物料方便快捷可调节法兰的支撑,平衡炉管的受力支撑。包含进气,出气,真空抽口针阀,KF密封圈及卡箍组合,4个密封硅胶圈等。


可选配件

混气系统,中,高真空系统,各种刚玉坩埚,石英管,计算机控制软件,无纸记录仪,氧含量分析仪,冷却水循环机。




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产品标签:石墨烯, 二维材料, 光电器件, 材料制备, 二硫化钼

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